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熱搜關(guān)鍵詞: 二氧化氯溶液 消毒凈化劑 過(guò)一硫酸氫鉀復合鹽 二氧化氯 亞硝酸還原酶

二氧化氯穩定性的影響因素有哪些?
來(lái)源: | 發(fā)布日期:2024-08-21

一、pH 和電子活度對二氧化穩定性影響

pH 對CIO?溶液穩定性的影響強于溫度、光照條件等因素。CIO?表現出趨于強酸環(huán)境而保持自身穩定的趨勢。在 5℃,pH=2條件下,30d后CIO?僅衰減 5%8,在 pH=7 時(shí),60d后 C10,可衰減 34%,而 pH=10 時(shí)1d后就可以衰減 30%。pH>9 時(shí),CIO?會(huì )更容易可能直接生產(chǎn)出純凈CIO?水溶液。氣系統pE-pH平衡圖顯示,CIO?穩定區的下邊界與水穩定區的上邊界平行,因此即使在絕對高的酸度條件下,水溶性CIO?依然不能穩定存在,僅可在強酸介質(zhì)中優(yōu)勢存在。當pH小于0.92時(shí),CIO?與Ch(aq)在pe-pH 圖中有共存邊界,這可以解釋 Cl從CIO?溶液釋放的現象。當CIO?濃度降低時(shí),CIO?濃度通常上升。在 pH介于 0.92~9.68 之間時(shí),CIO?能與C共存,這說(shuō)明CIO?水溶液必然含有 Cr。質(zhì)子數和電子數的增加都不利于CIO?的穩定,當溶液中質(zhì)子數增加時(shí),CIO?向 C或 Ch(aq)轉化,當溶液中電子數增加時(shí),CIO?向 Cl或CI?(aq)或CIO?轉化。

二、 光對二氧化氯性影響

CIO?會(huì )在光的作用下發(fā)生歧化和分解。量子化學(xué)計算和光譜實(shí)驗表明二氧化氯(OCIO)的光反應性強烈依賴(lài)于介質(zhì)(氣相,液體溶液或低溫基質(zhì))。

三、 的影響

溫度對CIO?穩定性的影響弱于pH。但在較高溫度條件下水溶液中CIO?會(huì )歧化生成大量 CIO?CIO3,熱分解動(dòng)力學(xué)近似為二級反應。10℃是影響 CIO?穩定性的臨界溫度在貯存 CIO?溶液時(shí)應控制溫度<10℃。在同樣的避光條件下,25℃時(shí) 15d的衰減率,只有CIO?溶液濃度<186 mg/L,時(shí)小于 10%;而在7℃下,濃度 78~842  mg /L,的衰減率均小于10%。

溶劑效應中生成 Cl0+o通道的改變也會(huì )導致 OClo 在低溫基體環(huán)境中的光化學(xué)性質(zhì)發(fā)生顯著(zhù)變化。在低溫基質(zhì)環(huán)境中產(chǎn)物主要為氣相反應中的次要產(chǎn)物 Cl+o2。

四、共存物質(zhì)影響

1.亞氯酸鹽和氯酸鹽: CIO ? CIO3的存在均可以保持C IO ?水溶液含量的穩定

2.Cl和 HClo:在不同情況下,CI既可促進(jìn)CIO?,的分解也可以是C IO?的分解產(chǎn)物。

結論

二氧化氯分子較活躍,溶于水后難以穩定保存,主要的影響因素為pH、溫度和光照在偏酸性、避光、低溫及極性溶劑條件下利于其穩定。也可以通過(guò)加入共存離子,通過(guò)化學(xué)平衡的方式維持溶液中二氧化氯的濃度。

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